SGN聚酰亞胺溶液研磨分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。
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SGN聚酰亞胺溶液研磨分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。
聚酰亞胺溶液是復(fù)合材料基體溶液品質(zhì)之一,廣泛用于高性能復(fù)合材料制領(lǐng)域,主要用于(金剛石、立方氮化硼)砂輪和摩擦材料的結(jié)合劑及耐高溫模壓制件的基體溶液,具有優(yōu)良的耐熱性和機械性能,還適用于制備耐高(低)溫固體自潤滑機械零件。可用有機溶劑(DMF)溶解,制成一定固含量的溶液液,用于制備纖維(剝離纖維、碳纖維)增強預(yù)混料,在耐高溫溶液基復(fù)合材料領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用。
 
產(chǎn)品特性:
高玻璃化溫度及熱穩(wěn)定性能,優(yōu)良的耐溶劑性能,低的熱膨脹系數(shù),高銅箔剝離強度,良好的貯存穩(wěn)定性能。
上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
GMD2000模塊主要由兩層分散頭構(gòu)成,工作時,物料通過投料口進入分散腔,首先到達層分散頭進行處理,由于馬達帶動轉(zhuǎn)子齒列高速運轉(zhuǎn),產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭,然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用,之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切,接著流出的物料進入第二層分散頭腔體,對處理過的物料再次進行剪切(原理同上),從而確保混合分散獲得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒,生成的混合液穩(wěn)定性更好,滿足疫苗生產(chǎn)對于粒徑的要求。
的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求
 
GMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 
型號  | 流量 L/H  | 轉(zhuǎn)速 rpm  | 線速度 m/s  | 功率 kw  | 入/出口連接 DN  | 
GMD2000/4  | 300  | 9000  | 23  | 2.2  | DN25/DN15  | 
GMD2000/5  | 1000  | 6000  | 23  | 7.5  | DN40/DN32  | 
GMD2000/10  | 2000  | 4200  | 23  | 22  | DN80/DN65  | 
GMD2000/20  | 5000  | 2850  | 23  | 37  | DN80/DN65  | 
GMD2000/30  | 8000  | 1420  | 23  | 55  | DN150/DN125  | 
GMD2000/50  | 15000  | 1100  | 23  | 110  | DN200/DN150  |